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美國 OAI 光刻機(jī) Model 200 型桌面掩模對(duì)準(zhǔn)器系統(tǒng)
價(jià) 格:詢價(jià)
產(chǎn) 地:更新時(shí)間:2021-01-19 15:35
狀 態(tài):正常點(diǎn)擊量:1449
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完全手工操作
。輸出光譜范圍:Hg: G(436海里),H(405海里),I(365nm)和310nm線,Hg-Xe: 260nm和220nm或LED: 365nm, 395nm, 405nm
。襯底從塊大小8平方
?;Q拋擲和面具
。紫外燈功率范圍從200到2000 w
。選擇紫外LED光源(365 nm和405 nm)
??諝廨S承真空吸盤
。接近(15-20um): & lt; 3.0 - 5.0, 軟接觸:2.0um,硬觸點(diǎn):1um和真空接點(diǎn):≤0.5um
。對(duì)齊模塊X, Y,和Z軸和θ
。雙通道光學(xué)反饋
。只提供正面接觸w / IR選項(xiàng)
??捎迷谧烂孢x項(xiàng)只適用于研發(fā)及獨(dú)立工作
。.占用空間小
。適用于生物學(xué)、微機(jī)電系統(tǒng)、半導(dǎo)體和 Microfludics CLiPP應(yīng)用程序
Model 200 Table Top Mask Aligner System